通过蒸发镀膜,改变镜头或镜片的光学性能,如折射性能与透光性能等,具体有高反膜、增透膜、红外膜、紫外膜、防水膜、导电膜、偏振膜、介质膜等。
可以分为薄膜电池与晶硅电池两种路线,其中ITO靶材主要适用于N型晶硅电池中的异质结(HJT)技术路线,起到透光与导电的作用;薄膜电池的钙钛矿结构路线可以使用物理气相沉积技术(PVD)达成。
液晶显示阵列基板需要高均匀性和平坦性的薄膜,靶材要求高纯、高密度及细晶。Array主要用到的靶材有ITO、Al、Mo、Cu、Ti等,CF主要用到的靶材有ITO等。
在浮法玻璃表面应用真空磁控溅射镀一层或多层的金属或化合物薄膜,进而改善玻璃的透光性、隔热性等,常见材料有银靶、硅铝靶、镍铬靶、氧化锌铝靶等。
蒸发镀膜设备可以分为电子束加热、感应加热、送丝工艺等,常见的更换器件有导热坩埚、蒸发舟、电子枪灯丝等。